ポスト5G情報通信システム基盤強化研究開発事業／先端半導体製造技術の開発（助成）」に係る公募について（国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構、中小機構）

以下のご案内がありましたので、お知らせします。詳細は下部をご確認ください。

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NEDOは、将来的にポスト5G情報通信システムで用いられる先端半導
体を国内で製造できる技術を確保するための開発に取り組みます。
そのため下記事業の実施者を一般に広く公募いたします。
先端半導体製造技術の開発（助成）
（c）露光周辺技術開発
（c1）EUV露光装置向けペリクル技術開発
（c2）EUV露光装置向け次世代フォトレジスト技術開発
申請期限は令和4年6月6日です。

〔HP〕https://j-net21.smrj.go.jp/snavi/articles/75304