統括管理者1
以下のご案内がありましたので、お知らせします。詳細は下部をご確認ください。
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ジェトロが事務局を務める国際知的財産保護フォーラム（IIPPF）※において情報共有セミナーを開催いたしますので、ご案内いたします。
中国市場における事業展開に伴い、日本企業は中国特有の知財問題に直面しています。
例えば、悪意の冒認商標出願、ストック出願、またこれらの抜け駆け登録や、これらを利用した模倣品問題が頻発する環境下において、異議申立てや無効審判、当局への働きかけなど、日本企業の経済的負担が大きくなっています。
そこで、中国における商標法、商標審査審理指南の改正における悪意の冒認商標出願対策強化の観点から、中国知識産権局が悪意の冒認商標出願及び使用目的としない商標ストック行為を抑制する取り組みを紹介いただいた上で、企業として如何にしてこれらの問題に効果的な商標権を取得・活用するか、権利化・権利行使時に注意すべき問題点について解説いただきます。
※国際知的財産保護フォーラム（IIPPF）は模倣品・海賊版などの海外における知的財産権侵害問題の解決をめざす企業・団体の集まりです。
現在、ミッション派遣、情報交換などプロジェクトチームによる活動を行っており、内外の関係機関と連携した取組みを展開しています。
記
日時：2022年12月23日（金）14:00-15:30
次第：
14:00-15:10 「中国商標法、商標審査審理指南の改正における悪意の冒認商標出願対策強化」
（発表者：万慧達知識産権 李斌（Li Bin）弁護士）
15:10-15:30 質疑応答
参加費：無料
言語：日本語（同時通訳）
定員：400名
申し込みURL：（締め切り：2022年12月19日(月）)
https://www.jetro.go.jp/events/iia/1cbdaf16f7c8a7b1.html
※定員となり次第、締切となります。
※参加登録頂いた方には、締切日以降にZoomの招待リンクをお送りします。
